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dazzling_deepika

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その金属層または)M1の各地必要がありますが使用される還元delay.Lowestを(最高(M6の)?

 
私は高速M1のだと思う。
M6は幅が広いより太く。
同じだからRのほとんどの値がありますが中にCの値を増加たくさん。
もっと速くなのでM1が。

 
層の金属から、上の金属の幅を持って大きく、それは抵抗がある以上。

金属容量に基板がトップです以下の金属と比較するとき、1つのloer。

したがって、遅延が....小さい

 
こんにちは、

高い金属層が第1、なることが速くします。e.遅延が少なくなります。
幅として厚さの両方少なくなる遅延される抵抗を大きくなりますと以下となります。
Thatsなぜ我々が優先クロックのみ金属ルーティング上位層。

それはあなたを助けることができる。

ありがとう..

HAKは..

 
高い金属層は、広く層の金属厚の層と同じとの間の金属容量をless.butリードを遅らせるよりされ、SIは質問なりつつ。

 
私達は行く高の増加に伴い抵抗...しかし、ワットはM6高Rとaboutt彼がキャップの寄生容量も増加の幅が増加低いM1がいたから?....遅延=貿易のRC ....ようはこれをしないを明確にしている低Rが、高はC ..マイクロエレクトロニクスを追加分後に2時間5:ミス*

抵抗の減少は高いに行く我々は

 
高い金属層は、Cが多くて小さいRを、

遅延は、RCに比例します。

量Rが減少して増加するCの量ですより大きい。

したがって、効果的に減少を遅らせる。

 
dazzling_deepikaは書き込み:

抵抗[として我々は高Go]を減少...しかし、ワットも幅が増加すると増加彼は寄生容量をaboutt"
 

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