新しい技術のためのDRCルールを思い付く方法は？

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ajitr99

Guest
こんにちはすべて、私はあなたのコメントで、良いと私を助けてくださいこのような別の層、ゲート長、ゲート酸化膜thicknes等との間の間隔などの新しいプロセス技術（CMOS）のための別のDRCルールをdesidingながら、主な懸念事項を知ることを望む書籍/マニュアルを参照してください。おかげで、Ajith。
 
uはファウンドリからこれらを得ることができます。そして彼らは詳細にこれらの文書と*. RULを提供することができます。
 
あなたは、ファウンドリから設計ルールの文書を取得する必要がありますし、あなたの情報のために古いDRC tfを取る。
 
私は非常に彼らはファウンドリから来ているそれを知っている
 
すべての上記の3つは、新しい技術のために正しいこと。
 
これらは、正確さと精密器具のや工場で使用されている技術に応じて制約です。これらが満たされていない場合は、与えられた設計渣技術のために、特定の工場でfaricatedすることができます。この情報がお役に立てば幸い
 
DRCルールのファウンドリを求めることは一般的な方法です。
 
こんにちはすべて、私はあなたのコメントで、良いと私を助けてくださいこのような別の層、ゲート長、ゲート酸化膜thicknes等との間の間隔などの新しいプロセス技術（CMOS）のための別のDRCルールをdesidingながら、主な懸念事項を知ることを望む書籍/マニュアルを参照してください。おかげで、Ajith。
 
uはファウンドリからこれらを得ることができます。そして彼らは詳細にこれらの文書と*. RULを提供することができます。
 
あなたは、ファウンドリから設計ルールの文書を取得する必要がありますし、あなたの情報のために古いDRC tfを取る。
 
私は非常に彼らはファウンドリから来ているそれを知っている
 
すべての上記の3つは、新しい技術のために正しいこと。
 
これらは、正確さと精密器具のや工場で使用されている技術に応じて制約です。これらが満たされていない場合は、与えられた設計渣技術のために、特定の工場でfaricatedすることができます。この情報がお役に立てば幸い
 
DRCルールのファウンドリを求めることは一般的な方法です。
 
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