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menewbie
Guest
する他のそれぞれの試合とドレインソ¥ースを減少させる私はとの不一致を考えでMOSFETとして良い....したがって、それは可能¥な多くのように。ただし、デバイスのプロセッサは、ドレインを埋め込むソ¥ースと、彼らは90 °の角度から代わりに移植しています。この角度は、絶縁体に覆われたことが、ソ¥ースドレイン領域をいくつかされますが発生します。彼らがいる領域が注入された詳細は、角度からのドレインしかし、絶縁体です取り上げた。ソ¥ースの少ない領域が絶縁体です取り上げた。したがって作成が一致しません。私は対称性を聞いて、ミラーの問題この問題の対処に恐ろしいことですよ。したがって、私は疑問に思って問題です何か良いの不一致このソ¥リューションに解決？？？